摘要: 用动态Monte-Carlo方法对Ge在单层表面活性剂Pb覆盖的Si(111)表面上沿团簇边缘扩散进行三维模拟.重点讨论Ge原子是否沿团簇边缘扩散,沿边缘扩散时的最大扩散步数及最近邻原子数对三维生长的影响,并计算薄膜表面粗糙度研究三维生长模式.模拟表明Ge沿团簇边缘扩散的行为对薄膜生长模式的影响很大,同时讨论了ES势对三维生长模式的影响.
中图分类号:
吴黎黎, 吴锋民. Ge/Pb/Si(111)生长中Ge原子沿团簇边缘扩散的三维Monte-Carlo模拟[J]. 计算物理, 2013, 30(3): 441-446.
WU Lili, WU Fengmin. 3D Simulation of Ge Edge-Diffusion Around Clusters in Ge/Pb/Si(111) Growth[J]. CHINESE JOURNAL OF COMPUTATIONAL PHYSICS, 2013, 30(3): 441-446.