采用壳层效应屏蔽长度Monte Carlo方法计算溅射产额

计算物理 ›› 2002, Vol. 19 ›› Issue (4): 290-292.

采用壳层效应屏蔽长度Monte Carlo方法计算溅射产额

李之杰¹, 王泽辉¹, 川村孝一², 山村泰道²

1. 内蒙古民族大学理工学院物理系, 内蒙古通辽市, 028043;
2. 冈山理科大学, 日本冈山市 700-0005

收稿日期:2001-01-03 修回日期:2001-04-28 出版日期:2002-07-25 发布日期:2002-07-25
作者简介:李之杰(1950-),男,内蒙古通辽,副教授,从事离子溅射计算机模拟方面的研究.
基金资助:
国家留学基金回国科研资助费(留金法[1999]5003号)资助项目

SPUTTERING YIELD CALCULATION BY MONTE CARLO SIMULATION WITH SCREENING LENGTH OF SHELL EFFECTS

LI Zhi-jie¹, WANG Ze-hui¹, Takaichi Kawamura², Yasunori Yamamura²

1. Inner Mongolian University for Nationality, Tongliaoshi 028043, China;
2. Okayama Univeristy of Science, Okayama 700-0005, Japan

Received:2001-01-03 Revised:2001-04-28 Online:2002-07-25 Published:2002-07-25

摘要/Abstract

摘要： 使用ACAT模拟程序计算了不同离子碰撞在单原子材料上的溅射产额.采用山村等人提出的考虑壳层效应的理论屏蔽长度,原子间作用势用Moliére势.并将计算结果与实验数据和山村等的经验公式进行了比较.

关键词: Monte Carlo模拟, 溅射产额, 壳层效应的屏蔽长度, 原子间作用势

Abstract: The sputtering yields due to various ion impacts on monatomic materials are calculated with the ACAT code.As the interatomic potential,Moliére potential is used in the simulation,and the theoretical screenging length is adopted which was advanced by Yamamura to include shell effects.The calculation results are consistent with experiment data and Yamamura's empirical sputtering formula.

Key words: Monte Carlo simulation, sputtering yield, screening length with shell effects, interatomic potential

中图分类号:

O562.4

李之杰, 王泽辉, 川村孝一, 山村泰道. 采用壳层效应屏蔽长度Monte Carlo方法计算溅射产额[J]. 计算物理, 2002, 19(4): 290-292.

LI Zhi-jie, WANG Ze-hui, Takaichi Kawamura, Yasunori Yamamura. SPUTTERING YIELD CALCULATION BY MONTE CARLO SIMULATION WITH SCREENING LENGTH OF SHELL EFFECTS[J]. CHINESE JOURNAL OF COMPUTATIONAL PHYSICS, 2002, 19(4): 290-292.

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