低能电子束曝光中的Monte-Carlo方法及沉积能分布

计算物理 ›› 1997, Vol. 14 ›› Issue (S1): 499-501.

低能电子束曝光中的Monte-Carlo方法及沉积能分布

谭震宇¹, 何延才²

1. 山东工业大学电力学院, 济南 250061;
2. 中国科学院上海硅酸盐研究所, 200050

收稿日期:1997-02-18 修回日期:1997-05-04 出版日期:1997-12-25 发布日期:1997-12-25
基金资助:
国家自然科学基金和山东省高校中青年学科带头人基金资助

MONTE CARLO METHOD AND ENERGY DISSIPATION DISTRIBUTION IN LOW-ENERGY ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY

Tan Zhenyu¹, He Yancai²

1. College of Electric Power, Shandong University of Technology, Jinan 250061;
2. Shanghai Insititute of Ceramics, Chinese Academy of Sciences, 200050

Received:1997-02-18 Revised:1997-05-04 Online:1997-12-25 Published:1997-12-25

摘要/Abstract

摘要： 建立一个低能电子在多元多层介质中散射Monte-Carlo模拟计算方法。低能电子在多元介质中弹性散射用Mot截面描述并应用作者提出的平均散射截面方法进行模拟计算;给出多元介质中修正的Bethe方程计算低能电子非弹性散射能量损失。计算了低能电子在电子束曝光胶中能量沉积分布。

关键词: 低能电子散射, Monte-Carlo方法, 电子束曝光, 能量沉积

Abstract: A Monte-Carlo method on low-energy electron (LEE) scatttering in multilyer and polybasic medium is proposed. The Mott cross-section applies for discribing the elastic scattering of LEE, and the idea of mean cross section is suggested to simulate LEE elastic scattering in polybasic medium; the modified Bethe formula in polybasic medium is used for calculating energy loss of LEE inelastic scattering. The energy dissipation distributions of LEE in PMMA have been obtained.

Key words: low energy electron scattering, Monte-Carlo method, electron beam lithography, energy dissipation

中图分类号:

TN01
O242.1

谭震宇, 何延才. 低能电子束曝光中的Monte-Carlo方法及沉积能分布[J]. 计算物理, 1997, 14(S1): 499-501.

Tan Zhenyu, He Yancai. MONTE CARLO METHOD AND ENERGY DISSIPATION DISTRIBUTION IN LOW-ENERGY ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY[J]. CHINESE JOURNAL OF COMPUTATIONAL PHYSICS, 1997, 14(S1): 499-501.

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