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部分耗尽SOI晶体管电离辐射损伤的物理模型
何宝平, 刘敏波, 王祖军, 姚志斌, 黄绍艳, 盛江坤, 肖志刚
计算物理    2015, 32 (2): 240-246.   DOI: TN386.1
摘要331)      PDF (2392KB)(471)   
从氧化层俘获空穴和质子诱导界面态形成的物理机制出发,建立部分耗尽SOI器件总剂量辐射诱导的氧化层陷阱电荷和界面态物理模型,模型可以很好地描述辐射诱导氧化层陷阱电荷和界面态与辐射剂量的关系,并从实验上对上述模型结果给予验证.结果表明,在实验采用的辐射剂量范围内,辐射诱导产生的氧化物陷阱电荷与辐射剂量满足负指数关系.模型中如果考虑空穴的退火效应,可以更好地反映高剂量辐照下的效应;辐射诱导产生的界面态与辐射剂量成正比例关系.
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MOS器件辐照过程和辐照后效应模拟
何宝平, 张凤祁, 姚志斌
计算物理    2007, 24 (1): 109-115.  
摘要290)      PDF (334KB)(1226)   
模拟MOS器件脉冲电离辐射响应和长时间恢复效应.假设隧道电子从硅进入氧化层和界面态的建立是辐射效应的恢复机理.在整个退火恢复期,采用卷积模型并考虑了栅偏置压的效应.模拟结果表明:退火过程所加栅偏压的大小以及隧道电子效应与建立的界面态所占比例的不同影响器件的恢复率.
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