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带沟槽结构的平板流动中的熵产分析
刘梅, 李曙光, 吴正人, 王松岭, 邓宇涵
计算物理
2020, 37 (2):
182-188.
DOI: 10.19596/j.cnki.1001-246x.8021
基于大涡模拟，采用Fluent软件对带沟槽结构的平板流动过程进行熵产分析，探究沟槽结构引起的熵产变化规律.结果表明：沟槽结构能减少流动过程中的熵产，在30 m·s-1时（Re≈20 000），近壁区总熵产减少约25%，40 m·s-1时（Re≈27 000）减少约19%，但其结构对后续流动没有持续性影响，且随着法向高度的增加，影响逐渐变小；熵产在沟槽顶端部分的数值远大于其他区域，湍流作用引起的熵产起主要作用.所得结论为优化沟槽结构减阻提供了理论依据.
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