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表面凹陷对等离子体浸没离子注入均匀性的影响

曾照明, 汤宝寅, 王松雁, 田修波, 刘爱国, 王小峰, 朱箭豪

计算物理 2000, 17 (4): 449-454.

摘要（240）

PDF （207KB）（1182）

利用二维流体模型和数值计算方法模拟了等离子体浸没离子注入(PⅢ )中,具有圆弧凹槽的平面靶周围的鞘层扩展情况,计算了鞘层扩展过程中的电势分布、离子速度和离子密度变化,获得了沿靶表面的离子入射角度和注入剂量的分布情况,为等离子体浸没离子注入处理复杂形状靶提供了理论基础。