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C2团簇在金刚石(111)表面吸附结构的分子动力学模拟
郭德成, 李双, 闫孟泽, 赵艳春, 李之杰
计算物理    2011, 28 (1): 99-104.  
摘要262)      PDF (573KB)(839)   
利用Brenner(#2)半经验多体相互作用势和分子动力学模拟方法研究荷能的C2在金刚石(111)表面的化学吸附过程.模拟300 K时,初始入射动能分别为1,20,30 eV的C2团簇从6个不同位置轰击金刚石(111)表面,观察到C2团簇在金刚石(111)表面形成的吸附结构,表面C原子键的打开以及C2团簇与表面C原子成键等物理过程,并讨论不同入射位置和入射能量对沉积团簇的结构特性的影响.结果表明,对于表面不同的局部构型,C2团簇发生不同的碰撞过程,C2团簇入射能量的提高有利于成键过程的发生,从原子尺度模拟沉积机制.
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Ar离子辅助沉积对含氢类金刚石薄膜结构影响的计算机模拟
李运超, 开花, 李双, 郭德成, 李之杰
计算物理    2009, 26 (5): 751-757.  
摘要288)      PDF (474KB)(714)   
选C2分子和一定量的H原子作为沉积源,Ar离子作为辅助沉积粒子,采用分子动力学(MD)方法模拟研究离子束辅助沉积(IBAD)生长类金刚石(DLC)膜的物理过程.给定Ar的入射能量并改变Ar的到达比(Ar/C),研究辅助沉积对DLC膜结构的影响;重点讨论Ar辅助沉积引起表面原子的瞬间活性变化对薄膜结构产生的影响.结果表明,由于Ar离子轰击引起的能量和动量的传递,增加了合成薄膜的SP3键含量,增大了合成薄膜的密度,加宽了沉积粒子和衬底的结合宽度,研究结果和实验观察一致,并从合成机理上给出一些定量解释.
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采用壳层效应屏蔽长度Monte Carlo方法计算溅射产额
李之杰, 王泽辉, 川村孝一, 山村泰道
计算物理    2002, 19 (4): 290-292.  
摘要344)      PDF (142KB)(763)   
使用ACAT模拟程序计算了不同离子碰撞在单原子材料上的溅射产额.采用山村等人提出的考虑壳层效应的理论屏蔽长度,原子间作用势用Moliére势.并将计算结果与实验数据和山村等的经验公式进行了比较.
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