摘要: 为研究表面界面粗化生长中孔洞的标度行为,在对Ballistic Deposition(BD)模型进行数值模拟的基础上,对模型中孔洞的模拟生长情况进行统计和分析.结果表明,BD模型中孔洞数目随模型生长时间的变化从初始阶段的高于线性而渐趋近于线性,并对该规律进行理论分析.
中图分类号:
李一璠, 夏辉. Ballistic Deposition模型孔洞生长标度行为的数值模拟[J]. 计算物理, 2009, 26(6): 931-936.
LI Yifan, XIA Hui. Dynamic Scaling in Growth of Holes in Ballistic Deposition Model[J]. CHINESE JOURNAL OF COMPUTATIONAL PHYSICS, 2009, 26(6): 931-936.